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国林科技:半导体臭氧设备可高效去除晶圆外表污染物进步良率


来源:欧宝体育官网在线    发布时间:2025-08-16 19:51:02

  证券之星音讯,国林科技(300786)08月15日在出资者联系平台上答复出资者关怀的问题。

  出资者发问:公司的半导体臭氧设备能否对进步国产晶圆及芯片的良率供给协助?详细进步良率的原理是什么?

  国林科技回复:敬重的出资者,您好。公司自主研制的半导体专用臭氧体系设备具有高浓度、高精度、高纯度及高稳定性的技能特色。在晶圆清洗环节,臭氧水可高效去除外表有机污染物和金属杂质,防止残留物导致的电路短路或功能缺点,臭氧气体发生器在氧化工艺中构成均匀细密的氧化层,进步器材电功能,能够轻松又有用进步产品良率。感谢您的重视。

  为证券之星据揭露信息收拾,由AI算法生成(网信算备240019号),不构成出资主张。

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